[发明专利]一种单斜相Ga2S3单晶的制备方法有效

专利信息
申请号: 202110603475.X 申请日: 2021-05-31
公开(公告)号: CN113293429B 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 王国强;李凌云 申请(专利权)人: 福州大学
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00;C30B29/46
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 350108 福建省福州市*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明公开了一种单斜相Ga2S3单晶的制备方法,采用真空密闭助熔剂坩埚下降法。引入助熔剂Sb2S3来降低单斜相Ga2S3单晶的结晶温度,通过晶体生长参数(温度梯度,下降速度等),制得能够符合实用要求的厘米级的高质量大尺寸单斜相Ga2S3单晶,尺寸可达Φ10×20mm,且在紫外可见光区域透过率可达90%以上。
搜索关键词: 一种 单斜 ga2s3 制备 方法
【主权项】:
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