[发明专利]一种暗场散射显微成像和光谱测试系统有效
| 申请号： | 202110604407.5 | 申请日： | 2021-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN113359288B | 公开（公告）日： | 2023-03-21 |
| 发明（设计）人： | 袁浚潇;侯宜栋;杨秀;吴轩楠;高福华;杜惊雷 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | G02B21/10 | 分类号： | G02B21/10;G02B21/18;G02B21/00 |
| 代理公司： | 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 | 代理人： | 赵荣之 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种暗场显微成像和光谱测试系统。它由光源、新型散射光路、光谱仪、CCD组成。本发明主要基于暗场散射，通过将传统暗场散射光路中的透镜元件更换为曲面反射镜，简化了光路，增加了散射光吸收效率。其优点在于：光路简单、成本低廉、散射光收集效率高、不仅能工作于可见光波段还能工作于红外、紫外、太赫兹波段。本发明在颗粒散射成像与光谱分析、表面成分检测等领域有广泛应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 暗场 散射 显微 成像 光谱 测试 系统 | ||
【主权项】：
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