[发明专利]一种化学放大型负性UV光刻胶、制备方法及其使用方法在审
| 申请号： | 202110608510.7 | 申请日： | 2021-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN114089601A | 公开（公告）日： | 2022-02-25 |
| 发明（设计）人： | 傅志伟;潘新刚;余文卿;刘平;刘军林 | 申请（专利权）人： | 江苏汉拓光学材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 合肥鸿知运知识产权代理事务所(普通合伙) 34180 | 代理人： | 刘骐鸣 |
| 地址： | 221000 江苏省徐州市徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻胶技术领域，且公开了一种化学放大型负性UV光刻胶，按质量百分比，所述光刻胶包括以下组分：PHS树脂10‑20％；光致产酸剂0.3‑1.5％；交联剂0.2‑2.0％；流平剂0.01‑0.05％；溶剂余量。本发明中交联剂的添加量为0.55‑0.75％，驻波效应得到改善，交联剂的添加量为0.5％时驻波效应改善最明显，效果最好。本发明配方中交联剂的添加量，即保证得到图形的成膜强度，又减小了交联程度，更能减小显影液浸泡光刻胶侧面由过曝光和欠曝光带来的差异。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 大型 uv 光刻 制备 方法 及其 使用方法 | ||
【主权项】：
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