[发明专利]等离子体处理装置和颗粒污染物的监测方法在审
| 申请号： | 202110609643.6 | 申请日： | 2021-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN115440557A | 公开（公告）日： | 2022-12-06 |
| 发明（设计）人： | 段蛟;连增迪;杨桂林;郭盛 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;张静洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种等离子体处理装置及颗粒污染物的监测方法，其中，所述等离子体处理装置包括：反应腔，其内底部设置基座，所述基座用于承载晶圆，所述反应腔内具有颗粒污染物；第一发射器，用于向所述颗粒污染物处发射信息；第一接收器，用于接收来自于第一发射器在颗粒污染物处的散射信息以确定颗粒污染物的位置信息；第二发射器，根据所述第一接收器确定的颗粒污染物的位置信息，向颗粒污染物的位置处发射信息；第二接收器，用于接收来自于所述第二发射器在颗粒污染物处的散射信息以确定颗粒污染物的大小。所述等离子体处理装置能够对等离子体刻蚀过程中的颗粒污染情况进行实时监测。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 颗粒 污染物 监测 方法 | ||
【主权项】：
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