[发明专利]用于脉冲激光沉积的装置在审

专利信息
申请号: 202110616590.0 申请日: 2021-06-03
公开(公告)号: CN113755799A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: K·H·A·玻姆;W·C·L·霍普曼;J·M·德克斯;J·A·扬森斯;B·贝伦巴克;T·B·H·特布赫斯特 申请(专利权)人: 索尔玛特斯有限责任公司
主分类号: C23C14/28 分类号: C23C14/28;C23C14/56
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 许剑桦
地址: 荷兰恩*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于脉冲激光沉积的装置,包括具有基板表面的基板和具有靶表面的靶,还包括:基板保持器,用于保持基板;靶保持器,用于保持靶,靶有面对基板表面的靶表面;速度过滤器,其布置在基板保持器和靶保持器之间,速度过滤器包括旋转的大致盘形本体,本体有旋转轴线,并有至少一个过滤器通道开口,过滤器通道开口从旋转本体的一个轴向表面延伸至另一轴向表面;及脉冲激光,脉冲激光在靶点处引导至靶上,用于产生靶材料的等离子体羽流,其中,在靶点处的靶表面面对基板表面,当沿与靶点处的靶表面垂直的方向看时,至少一个过滤器通道开口的通路与靶点重合,至少一个过滤器通道开口沿平行于旋转本体的旋转轴线的方向从靶至基板渐缩。
搜索关键词: 用于 脉冲 激光 沉积 装置
【主权项】:
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