[发明专利]光刻系统与在光刻系统中产生层流的设备在审
| 申请号： | 202110621420.1 | 申请日： | 2021-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN113325669A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 郑文豪 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 顾伯兴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光刻系统包括辐射源及光掩模。辐射源被配置成产生朝光掩模行进的电磁辐射。光刻系统还包括位于辐射源与光掩模之间的用于使电磁辐射穿过的入射通道。具有第一喷嘴及第二喷嘴，第一喷嘴被配置成在光掩模与入射通道的出口端口之间产生第一微粒屏蔽体且第二喷嘴被配置成在入射通道内产生第二微粒屏蔽体。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 产生 层流 设备 | ||
【主权项】：
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