[发明专利]配有热调节限制件的电磁处理单元有效
申请号: | 202110621729.0 | 申请日: | 2015-07-17 |
公开(公告)号: | CN113352584B | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | Y·拉奥格;G·弗约莱 | 申请(专利权)人: | 西德尔合作公司 |
主分类号: | B29C49/64 | 分类号: | B29C49/64;B29C49/06 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 张霓 |
地址: | 法国奥克特*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 电磁处理单元(8),其具有:主体(9),其具有正面(10);光发射装置(21),其具有多个发光源,光发射装置(21)在主体(9)上安装成向前辐射;流体回路,其配置在主体(9)内,用于光发射装置(21)的热调节;至少一个限制件(44,60,71),其由不透发射光的材料制成,具有暴露于发射光的限制面(47,61,74,79),电磁处理单元的特征在于,所述限制件(44,60,71)安装在主体(9)上,与之进行热接触,限制面(47,61,74,79)的热调节由流体回路(24)提供。 | ||
搜索关键词: | 配有 调节 限制 电磁 处理 单元 | ||
【主权项】:
暂无信息
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