[发明专利]一种二维层状异质结Ge-GeH、光电阳极材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110625764.X 申请日: 2021-06-04
公开(公告)号: CN113394023B 公开(公告)日: 2022-04-22
发明(设计)人: 罗劭娟;吴梓环;招家富;王林杰;邱全源;李泽宇;陆凤连;冯斯桐;欧金法;吴传德 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01G9/20 分类号: H01G9/20;C01B6/06
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 陈嘉毅
地址: 510090 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种二维层状异质结Ge‑GeH、光电阳极材料及其制备方法,Ge‑GeH异质结的制备方法包括如下步骤:S1.将锗单质和钙单质按比例混合均匀后煅烧,冷却后得到混合物;锗单质与钙单质的质量比为1:(0.4~0.8);S2.将S1得到的混合物与浓盐酸混合,在真空条件下搅拌反应40~55h,洗涤,超声处理,所得即为二维层状异质结Ge‑GeH。本发明制备得到的二维层状异质结Ge‑GeH具有优异的光电响应性能,可与商业导电碳粉混合用于制备PEC型光电探测系统中的光电阳极材料。
搜索关键词: 一种 二维 层状 异质结 ge geh 光电 阳极 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
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