[发明专利]一种铟锭真空除铊的方法在审
| 申请号： | 202110629227.2 | 申请日： | 2021-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN113481390A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 张文涛;肖红军;刘鸿飞;姚雁斌 | 申请（专利权）人： | 先导薄膜材料有限公司 |
| 主分类号： | C22B58/00 | 分类号： | C22B58/00;C22B9/04 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 颜希文 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种铟锭真空除铊的方法，属于冶金领域。本发明所述铟锭真空除铊的方法将铟锭直接在真空中进行高温物理除铊，相比于传统氯化铵除铊法，无需进行化学反应，不仅可避免产生污染物或烟尘等有害物质，实现真正的除杂零排放；同时也无需后续进行渣料处理，减少操作步骤，除铊效率明显提高，且所得铟锭产品纯度较高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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