[发明专利]X射线分析装置在审
| 申请号： | 202110629795.2 | 申请日： | 2021-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN113884524A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 高桥春男 | 申请（专利权）人： | 日本株式会社日立高新技术科学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔成哲;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供X射线分析装置。不需要用于将试样配置于一次X射线(X1)照射区域的位置调整机构和位置调整过程，利用简单的结构实现连续地测定大量小片试样的方法。荧光X射线分析装置构成为包含能够对试样照射X射线的X射线照射部、检测从试样产生的二次X射线的X射线检测部、搬送试样的试样搬送部和对检测到的X射线强度进行处理的数据处理部，使各个结构要素具有以下的功能。试样搬送部使试样移动以使试样通过X射线照射位置。X射线检测部以比试样通过X射线照射部所需要的时间短的时间间隔连续取得X射线能量谱。数据处理部根据连续取得的X射线能量谱的排列，根据X射线能量谱的特征选择试样位于所述X射线照射部的时刻的能量谱。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
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