[发明专利]一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统在审
| 申请号： | 202110635723.9 | 申请日： | 2021-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN113391525A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 于航;马占良;刘俊嘉 | 申请（专利权）人： | 吉林华微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都极刻智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 51310 | 代理人： | 唐维虎 |
| 地址： | 132000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种光刻版翻版机及光刻版翻版系统，光刻版翻版机包括：底板、上版框、下版框、合页组件结构和曝光单元；下版框位于底板的一侧，上版框通过合页组件结构与下版框活动连接，曝光单元位于上版框远离下版框的一侧；下版框和上版框用于容置待制作的光刻版；曝光单元用于提供光源将待曝光的母版图形接触式曝光至光刻版上，通过上述设置，能够制作得到图形形状、尺寸线宽与母版一致的光刻版，解决了母版上存在尘埃、划伤、沾污等缺陷，曝光后芯片表面存在的缺陷严重影响产品合格率、电学参数和质量的问题，同时大大降低光刻版原材料成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 翻版 系统 | ||
【主权项】：
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