[发明专利]无掩模光刻方法和无掩模光刻设备在审
| 申请号： | 202110645560.2 | 申请日： | 2021-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN115453823A | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 陈晓西;徐律涵;陈松泽;叶茂 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 成都恪睿信专利代理事务所(普通合伙) 51303 | 代理人： | 张竞 |
| 地址： | 610000 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于光刻技术领域，尤其涉及一种无掩模光刻方法和无掩模光刻设备，所述方法包括以下步骤：S1：获取目标物的待曝光区域；S2：根据所述待曝光区域产生焦点控制信号，所述焦点控制信号用于控制曝光光束聚焦的焦点的移动轨迹；S3：根据所述焦点控制信号控制曝光光束聚焦的焦点在所述目标物的表面移动以使所述待曝光区域曝光。所述设备包括光源，控制器和焦点移动装置。本发明的无掩模光刻方法和设备不需要使用掩模版，因此节约了制作掩模版的时间和成本。 | ||
| 搜索关键词： | 无掩模 光刻 方法 设备 | ||
【主权项】：
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