[发明专利]半导体刻蚀设备的电源柜在审
| 申请号： | 202110653096.1 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113363810A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 钱宗男 | 申请（专利权）人： | 苏州冠韵威电子技术有限公司 |
| 主分类号： | H02B1/20 | 分类号： | H02B1/20;H02B1/30;H02B1/32;H02B1/24;H02B1/50;H02B1/52;H02H7/26;H02H7/22;E05B65/52;E05C7/04 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体刻蚀设备的电源柜，包括柜体和配电系统，所述配电系统包括设置在所述柜体内部腔室中的总进线断路器和其他功能模块；所述柜体上设置有柜门，所述柜门包括可双向打开的第一门体和第二门体，所述第一门体和第二门体上分别对应设置有第一门锁和第二门锁，所述第一门体上还设置有总进线断路器操作机构，所述总进线断路器操作机构与所述总进线断路器连接,并至少用于闭合或断开所述总进线断路器,所述第一门锁还分别经总进线断路器操作机构的金属连杆、第一门体的折边与总进线断路器、第二门锁机械连锁。本发明电源柜内部的功能模块布局合理，实现了对柜体内部线缆的隐藏式布局，使得内部结构更加整齐，便于后期维护和维修。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 刻蚀 设备 电源 | ||
【主权项】：
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