[发明专利]一种石英反应腔的维护方法在审
| 申请号： | 202110654052.0 | 申请日： | 2021-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN113388893A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 张哲;巩雨锋;刘波 | 申请（专利权）人： | 广州粤芯半导体技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B31/10 | 分类号： | C30B31/10;C30B31/16 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 罗磊 |
| 地址： | 510000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明通过在将所述承载室的环境设置为大气环境，并将承载室空载后装载至石英反应腔室中；增加所述石英反应腔室的温度至预设温度，所述大气环境中的氧气与残留物膜层的表面析出有固体的N型离子反应形成杂质气体，并在石英反应腔室的腔室壁上形成硅氧薄膜；以及将石英反应腔室中的所述杂质气体抽出，使得石英反应腔室的腔室壁上析出的N型离子气化并得以去除，以及硅氧薄膜的绝缘作用，避免和阻止磷掺杂硅生产过程中，石英反应腔的残留物薄膜表面析出固态的磷，从而降低了由于磷析出后扩散至晶圆表面产生颗粒残留物污染，还可以延长使用三氟化氯气体干刻维护石英反应腔的周期。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 石英 反应 维护 方法 | ||
【主权项】：
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