[发明专利]一种气溶胶辅助化学气相沉积的氧化镓薄膜的生长方法及氧化镓薄膜在审
| 申请号： | 202110659219.2 | 申请日： | 2021-06-15 |
| 公开（公告）号： | CN113388824A | 公开（公告）日： | 2021-09-14 |
| 发明（设计）人： | 王云鹏;赵东旭;范翊;王飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C16/40 | 分类号： | C23C16/40;C23C16/448 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 李外 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种气溶胶辅助化学气相沉积的氧化镓薄膜的生长方法及氧化镓薄膜，属于纳米材料科学领域。该方法以镓类化合物水溶液为原料，以单温区高温管式炉与三通石英管为生长载体，以空气为载气，通过气溶胶辅助的化学气相沉积方法，合成氧化镓薄膜。本发明还提供上述制备方法得到的氧化镓薄膜，该氧化镓薄膜具备紫外光开关效应。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 气溶胶 辅助 化学 沉积 氧化 薄膜 生长 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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