[发明专利]一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶在审
| 申请号： | 202110664482.0 | 申请日： | 2021-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN113373418A | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 刘风光;吴鹏;赵巍胜 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学合肥创新研究院（北京航空航天大学合肥研究生院） |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人： | 练兰英 |
| 地址： | 230000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备纳米团簇的磁控溅射阴极靶，包括连接杆、与连接杆一端设置磁钢的靶头、密封套设在靶头外的靶罩，所述靶头内设置有空腔，所述靶头端部固定有阴极溅射板，所述靶罩与靶头密封固定时所述阴极溅射板露出；所述靶罩上环设有与若干个与靶罩连通的喷口，所述靶头上设置有进气接口，所述靶头内部设置有与进气接口连通的均气机构。设置靶头内部的均气机构可以将通入的氦气均匀分散在靶头内部。环设在靶罩上的若干个喷口保证氦气可以从靶罩各个方向喷出，以保证溅射的氩离子可以尽可能多的向样品基片方向运动，保证覆膜速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 纳米 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
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