[发明专利]少层过渡金属硫化物/石墨烯复合二维材料及制备与应用在审
| 申请号： | 202110666004.3 | 申请日： | 2021-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN113307235A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 段国韬;翁朝仓 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | C01B19/04 | 分类号： | C01B19/04;C01G39/06;C01B32/194;B82Y15/00;B82Y30/00;B82Y40/00;G01N21/65 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 许恒恒 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于表面增强拉曼光谱传感衬底材料领域，公开了一种少层过渡金属硫化物/石墨烯复合二维材料及制备与应用，该复合二维材料包括过渡金属硫化物层状二维纳米片成分与石墨烯层状二维纳米片成分，且这两种成分通过静电吸附作用相复合。本发明通过对复合材料的成分组成及结构、以及对应制备方法的整体工艺流程设计进行改进，利用少层过渡金属硫化物层状二维纳米片与石墨烯层状二维纳米片通过静电吸附作用得到少层过渡金属硫化物/石墨烯复合二维材料，尤其可作为表面增强拉曼散射(SERS)衬底材料应用(例如，可作为SERS活性衬底中的敏感材料，用于对有机分子R6G等的痕量检测)。 | ||
| 搜索关键词： | 过渡 金属 硫化物 石墨 复合 二维 材料 制备 应用 | ||
【主权项】：
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