[发明专利]激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构在审
| 申请号： | 202110667771.6 | 申请日： | 2021-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN113515021A | 公开（公告）日： | 2021-10-19 |
| 发明（设计）人： | 陈林森;浦东林;张瑾;朱鸣;朱鹏飞;乔文;朱昊枢;刘晓宁;邵仁锦;杨颖 | 申请（专利权）人： | 苏州苏大维格科技集团股份有限公司;苏州大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06T17/00 |
| 代理公司： | 苏州简理知识产权代理有限公司 32371 | 代理人： | 庞聪雅 |
| 地址： | 215123 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供一种激光直写光刻机制作的三维微纳形貌结构。所述三维微纳形貌结构包括:基体；形成于所述基体上的至少一个三维微纳形貌单元，其中每个三维微纳形貌单元包括至少一个视觉高点，所述每个三维微纳形貌单元包括复数个从视觉高点开始斜坡形貌斜率按预设规律变化的环带。所述三维微纳形貌结构具有非常逼真的立体视觉。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 光刻 机制 三维 形貌 结构 | ||
【主权项】：
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