[发明专利]一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法在审
| 申请号： | 202110669958.X | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN113334237A | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 罗远昭 | 申请（专利权）人： | 浙江台佳电子信息科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B31/112 | 分类号： | B24B31/112;B24B41/06;B24B29/02;B24B57/02;B24B41/00;B24B27/02 |
| 代理公司： | 南京普睿益思知识产权代理事务所(普通合伙) 32475 | 代理人： | 曹花 |
| 地址： | 318000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明涉及镜片加工技术领域，具体涉及一种微型3D投影装置基片研抛装置及其研抛方法；本发明包括数控台、工作台、一级研抛组件和二级研抛组件，一级研抛组件包括行程组件、驱动组件、固定组件和抛光组件，行程组件包括导轨板、滑块、螺杆和行程电机，驱动组件包括联结杆和旋转电机，固定组件包括C型臂、负压筒、真空吸盘和负压泵，抛光组件包括抛光池、磨盘、齿轮、链条和抛光电机，二级研抛组件包括安装座、抛光筒、电磁铁和电源模块，一级研抛组件和二级研抛组件由数控台控制，一级研抛组件还配套有与之匹配的辅助组件，辅助组件包括喷淋头、输送泵、储液桶和废液桶；本发明能够有效地解决现有技术存在抛光的精度不高和抛光的效率较低等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微型 投影 装置 基片研抛 及其 方法 | ||
【主权项】：
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