[发明专利]高通量光刻胶配胶曝光一体化设备及光刻工艺在审
| 申请号： | 202110673445.6 | 申请日： | 2021-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN115487998A | 公开（公告）日： | 2022-12-20 |
| 发明（设计）人： | 李卫民;施胜华;黄嘉晔;俞文杰 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路材料研究院有限公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02;B05C9/14;B05D3/04;G03F7/16;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 卢炳琼 |
| 地址： | 201800 上海市嘉*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高通量光刻胶配胶曝光一体化设备及光刻工艺。设备包括配胶系统、涂胶腔室、传送腔室及曝光腔室；配胶系统包括2套以上配胶装置，各配胶装置均包括配胶釜、压滤机和精滤釜，光刻胶原料在配胶釜中完成混合调配后被输送至压滤机过滤，之后转入精滤釜进行超净过滤以得到光刻胶；涂胶腔室包括涂胶腔体、载台及喷嘴，载台及喷嘴均位于涂胶腔体内，喷嘴一端经双极泵与各配胶装置的精滤釜相连接，另一端延伸到载台上方；传送腔室连接于涂胶腔室和曝光腔室之间，传送腔室包括传送腔体及位于传送腔体内的传送装置。本发明可实现光刻胶的自动加料和自动配置，且配方高通量，曝光高通量，可降低光刻成本和提高光刻良率。 | ||
| 搜索关键词： | 通量 光刻 胶配胶 曝光 一体化 设备 工艺 | ||
【主权项】：
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