[发明专利]一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法在审
| 申请号： | 202110685955.5 | 申请日： | 2021-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN113403650A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 杨光;李月;陈菊;惠越 | 申请（专利权）人： | 集美大学 |
| 主分类号： | C25D1/22 | 分类号： | C25D1/22;C25D3/08;C25D5/00 |
| 代理公司： | 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 | 代理人： | 马应森 |
| 地址： | 361021 福*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种利用离散晶核提高脱模剂涂覆均匀性的方法，涉及离散晶核和工业涂覆技术领域。包括以下步骤：1)配制脱模剂溶液：在烧杯中加入去离子水，将重铬酸钾粉末加入烧杯中，搅拌；2)配置电镀液：将硫酸铬、氯化铵、硼酸、甘氨酸药品加入电沉积槽中，然后向槽中加入去离子水，搅拌。3)电沉积Cr离散晶核：将铜片固定在阴极板上接入电源负极，以钛篮为阳极接入电源正极，调节电流大小，调节加热温度，进行电沉积得Cr金属的离散晶核，根据极化曲线计算芯模表面的晶核密度。有利于重铬酸钾溶液在铜表面附着，增加涂覆均匀性，为铜模电铸脱模提供更有利的条件。离散晶核可以使用多次。对于精密电铸模具，实施简单，脱模后可获得镜面级表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 离散 晶核 提高 脱模剂 均匀 方法 | ||
【主权项】：
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