[发明专利]一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 202110696128.6 | 申请日： | 2021-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN113248650B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 张艳鸽;孙燕华;姚川;朱兆梅;朱巧玲 | 申请（专利权）人： | 许昌学院 |
| 主分类号： | C08F220/20 | 分类号： | C08F220/20;C08F220/60;C08F220/56;C08F220/04;C08F220/06;C08F2/44;C08K3/32;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;B01D15/08;C07C51/47;C07C57/03 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 | 代理人： | 张伟 |
| 地址： | 461000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种以羟基磷灰石为载体的低共熔溶剂型分子印迹聚合物及其制备方法和应用。以羟基磷灰石作为载体，两种不同低共熔溶剂分别作为功能单体和交联剂，并引入模板分子通过聚合反应、洗脱模板分子，即得分子印迹聚合物。该分子印迹聚合物以羟基磷灰石作为载体骨架，而印迹层均匀地分布在载体表面，不但解决了传统分子印迹聚合的印迹位点易被包埋的问题，同时有利于目标分子更容易到达印迹位点，因此吸附更快、吸附量更大，且该分子印迹聚合物易于根据目标分子来进行设计，可以广泛应用于复杂体系中目标分子的选择性识别和分离提取，且分子印迹聚合物的制备采用原料成本低、操作简单、对环境友好，易于大规模生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 羟基 磷灰石 载体 低共熔 溶剂 分子 印迹 聚合物 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于许昌学院，未经许昌学院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110696128.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种防泛碱园林石材粘结剂及其制备方法
- 下一篇：一种固定角度定位型锁定螺钉
