[发明专利]电镀铜溶液添加剂、电镀铜溶液以及电镀方法在审

专利信息
申请号: 202110697190.7 申请日: 2021-06-23
公开(公告)号: CN113502512A 公开(公告)日: 2021-10-15
发明(设计)人: 徐群杰;周苗淼;孟雅超;张雨;沈喜训 申请(专利权)人: 上海电力大学
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/02;C25D7/00;H05K3/42
代理公司: 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 代理人: 王伟珍
地址: 200090 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明属于电镀技术领域,提供了电镀铜溶液添加剂、电镀铜溶液以及电镀方法,电镀铜溶液添加剂包括加速剂1‑10份、抑制剂150‑300份以及整平剂1‑20份,加速剂为聚二硫二丙烷磺酸钠,抑制剂为聚乙二醇‑6000、聚乙二醇‑8000、聚乙二醇‑10000中的任意一种或几种的任意比例组合,整平剂为5‑氨基‑1,3,4‑噻二唑‑2‑硫醇,该整平剂价格低廉、毒性小且稳定。电镀铜溶液含有本发明的电镀铜溶液添加剂,电镀方法使用了该电镀铜溶液,所以电镀效果较好,从而使得盲孔镀层深镀能力较好,填孔率较高、凹陷度低、填孔效果好,铜层表面平整性好,无明显铜瘤产生,形成超填充,无空洞,无夹缝,表面光亮,可以有效防止因为盲孔空洞传输不稳定等缺点,进一步提高电子产品的可靠性。
搜索关键词: 镀铜 溶液 添加剂 以及 电镀 方法
【主权项】:
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