[发明专利]一种近红外光屏蔽薄膜材料、制备方法及应用有效
| 申请号： | 202110699517.4 | 申请日： | 2021-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN113391492B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 曹晖;张学涛;史玮婷;韩锐;杨洲;王冬;何万里 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/137 | 分类号： | G02F1/137;G02F1/1334 |
| 代理公司： | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人： | 朱艳华 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种近红外光屏蔽薄膜材料、制备方法及应用，涉及光学材料技术领域，能够获得宽波反射薄膜，具有原材料易得、工艺简单、成本低等特点；该方法包括：小分子向列相液晶、紫外自由基可聚合单体、手性化合物、紫外吸收染料和自由基光引发剂混配均匀，制得胆甾相液晶复合体系；小分子向列相液晶、紫外自由基可聚合单体和自由基光引发剂混配均匀，制得向列相液晶复合体系；将胆甾相液晶复合体系灌入第一液晶盒中经聚合形成密度梯度分布的聚合物网络；用垫片和取向处理的封装板替换液晶盒疏油封装，得到第二液晶盒；将向列相液晶复合体系灌入第二液晶盒经扩散和聚合得到近红外光屏蔽薄膜。本发明提供的技术方案适用于光屏蔽的过程中。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 红外光 屏蔽 薄膜 材料 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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