[发明专利]一种无衬底超薄镍-63放射源的制备方法有效
| 申请号： | 202110700586.2 | 申请日： | 2021-06-23 |
| 公开（公告）号： | CN113436775B | 公开（公告）日： | 2022-11-08 |
| 发明（设计）人： | 苏冬萍;梁帮宏;罗婷;张劲松;甘泉;李顺涛;陈云明;王国华;姚亮;周春林 | 申请（专利权）人： | 中国核动力研究设计院 |
| 主分类号： | G21G4/04 | 分类号： | G21G4/04;G21G4/06 |
| 代理公司： | 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 | 代理人： | 唐邦英 |
| 地址： | 610000 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种无衬底超薄镍‑63放射源的制备方法，包括以下步骤：S1、将电沉积液中的镍金属离子沉积在铜衬底的一侧形成镍层；S2、在镍层上覆一层有机膜，即在镍层的两个对称面上分别为铜衬底和有机膜；S3、将步骤S2制备的镍‑63放射源浸没在衬底去除溶液中去除铜衬底；S4、去除步骤S3制备的无衬底镍‑63放射源上的有机膜，获得无衬底超薄镍‑63放射源。本发明制备得到无衬底超薄镍‑63放射源为双面放射源，厚度小于2μm，表面平整，无褶皱和破损，镍层致密均匀，有金属光泽；本发明工艺简便，操作简单，电沉积率大于90％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 衬底 超薄 63 放射源 制备 方法 | ||
【主权项】：
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