[发明专利]一种背光模组制备工艺及背光模组在审
| 申请号： | 202110704301.2 | 申请日： | 2021-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN113450648A | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 朱剑飞;李幸达;韩婷婷 | 申请（专利权）人： | 深圳市瑞丰光电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F9/30 | 分类号： | G09F9/30;G02B5/08 |
| 代理公司： | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人： | 邹学琼 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市光*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种背光模组制备工艺及背光模组，涉及背光器件领域。背光模组制备工艺包括提供反光材料和发光模组，发光模组界定相背的发光面与背光面，以及连接发光面和背光面的侧面；将反光材料连接于发光模组的背光面和/或侧面；拼接发光模组，以使反光材料将发光模组之间的拼缝遮挡和/或填充。其比传统方式的可控性、可调性好，有利于控制反光材料的遮挡情况，能够使反光材料更好地发挥遮挡效果。背光模组通过背光模组制备工艺制备得到，使反光材料能够将发光模组间的拼缝充分遮挡或填充，避免出现局部遮挡/填充不充分的情况，大大降低了暗线或者暗点出现的概率，有效提升了发光效果和发光均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 背光 模组 制备 工艺 | ||
【主权项】：
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