[发明专利]卤素含氧酸溶液的制造方法和制造装置在审
| 申请号： | 202110710039.2 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN113842866A | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 根岸贵幸;下田享史;斋藤聪洋;松田直树;柿囿兼一;河野武史;森胁正之 | 申请（专利权）人： | 株式会社德山 |
| 主分类号： | B01J19/26 | 分类号： | B01J19/26;B01J19/00;B01J4/00;B01J10/00;C11D7/10;C11D7/32;C11D7/60 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种卤素含氧酸溶液的制造方法和制造装置。针对卤素含氧酸溶液的制造，提供工业上有利的制造方法和制造装置。通过下述卤素含氧酸溶液的制造方法来解决，所述制造方法中，将有机碱溶液和卤素连续地供给至静态型混合器并进行混合，连续地获得所产生的卤素含氧酸。 | ||
| 搜索关键词： | 卤素 含氧酸 溶液 制造 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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