[发明专利]大视场投影物镜及光刻机在审
| 申请号： | 202110710763.5 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN115524927A | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 安福平;储兆祥 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/14;G02B13/06;G02B13/18 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 郑星 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供一种大视场投影物镜及光刻机，所述大视场投影物镜包括从物方开始沿光轴依次排列的第一透镜组、第二透镜组、第三透镜组和第四透镜组。本发明中仅使用了四组镜组，能够使得光学结构更加紧凑，降低了成本，并提升了投影物镜系统的透过率，从而提高曝光效率。另外，所述第一透镜组的焦距f |
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| 搜索关键词： | 视场 投影 物镜 光刻 | ||
【主权项】：
暂无信息
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