[发明专利]用于4.5μm负极集流体铜箔零排放的防氧化工艺在审
| 申请号： | 202110710885.4 | 申请日： | 2021-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN113481496A | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 徐龙;操声跃;徐辉;安聪 | 申请（专利权）人： | 铜陵市华创新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C22/27 | 分类号： | C23C22/27 |
| 代理公司： | 铜陵市嘉同知识产权代理事务所(普通合伙) 34186 | 代理人： | 吴晨亮 |
| 地址： | 244000 安徽省铜陵*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了用于4.5μm负极集流体铜箔零排放的防氧化工艺，其特征是：包括以下步骤：在包括铬酐的防氧化液中加入增加曲酸、植酸、柠檬酸中的一种或多种来调控防氧化液的pH值和铬浓度，pH值控制在2~3，铬浓度控制在0.4~1.2g/l，当COD接近12000mg/l时加入双氧水，使得COD控制在3000~12000mg/L。本发明的有益效果是解决了传统4.5微米电解铜箔防氧化液大量排液问题；在保证防氧化液的抗氧化性能的条件下，PH能稳定控制在2~3；防氧化液无需排液可以永久使用；减少了生产成本和运行成本，保护环境。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 4.5 负极 流体 铜箔 排放 氧化 工艺 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C22-00 表面与反应液反应、覆层中留存表面材料反应产物的金属材料表面化学处理，例如转化层、金属的钝化
C23C22-02 .使用非水溶液的
C23C22-05 .使用水溶液的
C23C22-70 .使用熔体
C23C22-73 .以工艺为特征的
C23C22-78 .待镀覆材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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