[发明专利]一种AlGaN基紫外激光器的生长方法有效
申请号: | 202110716151.7 | 申请日: | 2021-06-25 |
公开(公告)号: | CN113445130B | 公开(公告)日: | 2023-02-24 |
发明(设计)人: | 王军喜;王大地;郭亚楠;刘志彬;闫建昌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C30B29/68 | 分类号: | C30B29/68;C30B23/02;C30B25/02;C30B29/40;C30B33/02;H01S5/323 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周天宇 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种AlGaN基紫外激光器的生长方法,通过原位热处理的方法粗化AlGaN赝晶层的表面,来缓解AlGaN厚膜的应力,显著改善晶体质量;由于表面粗化结构尺寸更小,后续AlGaN厚膜生长过程更容易合并,形成原子级平整表面,进而生长得到高质量的紫外激光器结构。 | ||
搜索关键词: | 一种 algan 紫外 激光器 生长 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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