[发明专利]多带电粒子射束照射装置及多带电粒子射束照射方法在审
| 申请号： | 202110717635.3 | 申请日： | 2021-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN114326317A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 冈泽光弘 | 申请（专利权）人： | 纽富来科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个方式提供一种能够抑制运转率的恶化并且适当地更换消隐孔径阵列基板的多带电粒子射束照射装置以及多带电粒子射束照射方法。多带电粒子射束照射装置具备：成形孔径阵列基板，通过多个第一开口使带电粒子射束通过而形成多射束；多个消隐孔径阵列基板，设置有使对应的射束通过的多个第二开口，在各第二开口配置有消隐器；可动工作台，在与沿着光轴的第一方向正交的第二方向上隔开间隔地搭载多个消隐孔径阵列基板，在第二方向上移动而使多个消隐孔径阵列基板中的1个位于光轴上；以及对准机构，进行光轴上的消隐孔径阵列基板与成形孔径阵列基板的对准调整。 | ||
| 搜索关键词： | 带电 粒子 照射 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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