[发明专利]一种改善刻蚀水印的装置及刻蚀机

摘要

本发明公开了一种改善刻蚀水印的装置及刻蚀机，改善刻蚀水印装置，包括设置在刻蚀机台用于承载晶片的滚轮，所述滚轮包括旋转轴以及设置在所述旋转轴表面的螺纹结构。通过将现有的台阶型滚轮设计为具有螺纹结构的滚轮，用于承载晶片时，可以减少水的吸附，改善水印的效果。进而提高产品效率/良率，降低化学品耗量，节约生产成本。