[发明专利]半导体工艺设备及其门阀中位调节装置有效

专利信息
申请号: 202110732619.1 申请日: 2021-06-30
公开(公告)号: CN113431910B 公开(公告)日: 2023-06-16
发明(设计)人: 耿宏伟 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: F16K3/02 分类号: F16K3/02;F16K3/30;F16K27/04;F16K31/122;F16K37/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种用于半导体工艺设备的门阀中位调节装置,半导体工艺设备包括工艺腔室和门阀组件,门阀组件包括阀板和中位调节件,中位调节件用于通过转动来调节阀板处于中位状态时出气口的开度,门阀中位调节装置包括套筒和调节杆,套筒套设在调节杆上,调节杆的第一端用于与中位调节件连接并带动中位调节件绕调节杆的轴线转动;套筒能够在调节杆转动时沿调节杆的轴向进行直线运动,且套筒与调节杆沿轴向的相对位置的变化量与调节杆的旋转角度成正比,门阀中位调节装置上具有位置标识图案,用于量化套筒与调节杆之间相对位置的变化量。本发明提供的门阀中位调节装置能够提高调节工艺腔室压力的调节效率及精确性。本发明还提供一种半导体工艺设备。
搜索关键词: 半导体 工艺设备 及其 门阀 调节 装置
【主权项】:
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