[发明专利]一种高纯度N-甲基吡咯烷酮中杂质去除工艺在审
| 申请号： | 202110733333.5 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN113651744A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 廖中华 | 申请（专利权）人： | 福建格林韦尔材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C07D207/267 | 分类号： | C07D207/267 |
| 代理公司： | 福州顺升知识产权代理事务所(普通合伙) 35242 | 代理人： | 黄勇亮 |
| 地址： | 365000 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种高纯度N‑甲基吡咯烷酮中杂质去除工艺，包括以下步骤：将N‑甲基吡咯烷酮以30‑100ml/min的流速在预热器预热，通过分子筛选装置以压力40‑500Pa进行渗透蒸发，经过分子筛选装置的筛膜循环管道后，收集去除甲胺和水分的N‑甲级吡咯烷酮；经过多次的循环过滤之后，从而得到高纯度的N‑甲级吡咯烷酮；本发明方法操作简便，能耗低，效果好，具有广泛的工业化生产前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纯度 甲基 吡咯烷酮 杂质 去除 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福建格林韦尔材料科技有限公司，未经福建格林韦尔材料科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110733333.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
