[发明专利]一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法有效
| 申请号： | 202110734446.7 | 申请日： | 2021-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN113540270B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 严文生;臧月;王宇;吴秋轩;林伟杰;辛青;李懿霖;林君 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | H01L31/032 | 分类号： | H01L31/032;H01L31/0392;H01L31/18 |
| 代理公司： | 杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 | 代理人： | 杨舟涛 |
| 地址： | 310018 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种获得平整、均匀、致密钙钛矿薄膜的方法，本发明先采用旋涂法制备CsPbBr |
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| 搜索关键词： | 一种 获得 平整 均匀 致密 钙钛矿 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
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H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
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