[发明专利]特征优化方法及装置在审
| 申请号： | 202110751068.3 | 申请日： | 2021-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN113610107A | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 宋万鹏;陈冬雨 | 申请（专利权）人： | 同盾科技有限公司;同盾控股有限公司 |
| 主分类号： | G06K9/62 | 分类号： | G06K9/62;G06N3/04;G06N3/08 |
| 代理公司： | 北京知果之信知识产权代理有限公司 11541 | 代理人： | 卜荣丽;李志刚 |
| 地址： | 311121 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供一种特征优化方法及装置，所述方法包括将待优化特征输入预先构建的特征优化模型；通过所述编码器对所述待优化特征进行降维映射，将所述待优化特征映射为第一中间特征；通过所述解码器对所述第一中间特征进行升维映射，将所述第一中间特征映射为与所述待优化特征维度相同的第二中间特征；基于所述第二中间特征与所述待优化特征的特征差异，对所述待优化特征进行优化，确定优化特征。本公开的特征优化方法能够高效地获取待优化特征中存在交叉关系的特征，并且能够降低特征维度，提高计算效率。 | ||
| 搜索关键词： | 特征 优化 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同盾科技有限公司;同盾控股有限公司，未经同盾科技有限公司;同盾控股有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110751068.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种宽波段光学吸收剂及涂层制备方法
- 下一篇：新的间皮素抗体和包含其的组合物
