[发明专利]一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统在审

专利信息
申请号: 202110753787.9 申请日: 2021-07-03
公开(公告)号: CN113483728A 公开(公告)日: 2021-10-08
发明(设计)人: 王建强;朱前程;代阳;孙云龙 申请(专利权)人: 东华理工大学
主分类号: G01C1/02 分类号: G01C1/02;G01B11/26
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤牡丹
地址: 330013 江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明公开了一种用于高精度电子经纬仪的纳米级干涉条纹测角系统,包括纳米级光栅度盘、用于驱动纳米级光栅度盘旋转的驱动装置、纳米级光栅探测器,纳米级光栅探测器包括发光二极管、固定度盘、光敏二极管,发光二极管与光敏二极管相对应设置,固定度盘设置在发光二极管与光敏二极管之间,纳米级光栅度盘设置在固定度盘与光敏二极管之间;所述固定度盘、纳米级光栅度盘上均设置有密度相同的纳米条纹。本发明解决了电子经纬仪在复杂条件下架设、对中、整平和瞄准等过程中的精度误差源问题,提高了电子经纬仪的使用效果。
搜索关键词: 一种 用于 高精度 电子 经纬仪 纳米 干涉 条纹 系统
【主权项】:
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