[发明专利]一种掺杂ATMP-K的氧化锡电子传输层的制备方法及其在钙钛矿太阳电池中的应用在审

专利信息
申请号: 202110754128.7 申请日: 2021-07-05
公开(公告)号: CN113571649A 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 张晓丹;张佳莉;李仁杰;王鹏阳;石标;赵颖 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: H01L51/48 分类号: H01L51/48;H01L51/46;H01L51/42
代理公司: 天津耀达律师事务所 12223 代理人: 侯力
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种掺杂ATMP‑K的氧化锡电子传输层的制备方法及其在钙钛矿太阳电池中的应用。解决了氧化锡层光电性不足以及其与钙钛矿层界面稳定性差的问题,为氧化锡在钙钛矿太阳电池中的应用提供了一种简单的思路。本发明所述电子传输层的制备工艺如下:采用ATMP与KOH溶液混合制备成ATMP‑K混合溶液,再与SnO2前驱体溶液混合得到掺杂ATMP‑K的SnO2前驱体溶液。将掺杂前驱体溶液旋涂在导电衬底上,得到掺杂ATMP‑K的SnO2电子传输层。本发明所述SnO2电子传输层能够在低温下制备,制备工艺简单,成本低廉,有效提高载流子的利用率,增加钙钛矿太阳电池的开路电压,提升太阳能电池的光电转换效率。
搜索关键词: 一种 掺杂 atmp 氧化 电子 传输 制备 方法 及其 钙钛矿 太阳电池 中的 应用
【主权项】:
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