[发明专利]声表面波晶片级封装及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202110756802.5 申请日: 2021-07-05
公开(公告)号: CN113904649A 公开(公告)日: 2022-01-07
发明(设计)人: 张硕焕;金炳学;李昶烨 申请(专利权)人: 天津威盛电子有限公司
主分类号: H03H9/02 分类号: H03H9/02;H03H3/08
代理公司: 北京市隆安律师事务所 11323 代理人: 权鲜枝
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种声表面波(SAW)晶片级封装,包括:基板;形成在基板上的叉指式换能器(IDT);沿IDT外围形成在基板上的侧壁;形成在侧壁和IDT上方以与侧壁在IDT上方形成中空部的盖;连接电极,其形成在基板上,与IDT电连接并从侧壁的外围向外延伸;连接端子,其电连接到连接电极的从侧壁的外围向外延伸的部分,形成为遍及侧壁的一个外表面以及盖的一个表面和顶表面的一部分,并且具有形成为高于盖的顶表面的顶表面;以及有机可焊性防腐(OSP)涂层,其至少形成在连接端子的顶表面上。
搜索关键词: 表面波 晶片 封装 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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