[发明专利]一种平面绕组单元及制作方法、平面绕组和平面电子器件在审

专利信息
申请号: 202110758618.4 申请日: 2021-07-05
公开(公告)号: CN113707425A 公开(公告)日: 2021-11-26
发明(设计)人: 娄建勇;张旭东;袁凯;姚炜;尹玮 申请(专利权)人: 无锡燊旺和电子科技有限公司
主分类号: H01F27/28 分类号: H01F27/28;H01F27/32;H01F17/00;H01F41/04
代理公司: 苏州禾润科晟知识产权代理事务所(普通合伙) 32525 代理人: 赵传海
地址: 214101 江苏省无锡市锡山经济技*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种平面绕组单元及制作方法、平面绕组和平面电子器件,其中的平面绕组单元,包括绝缘基材和图案化的导电层,所述导电层设置在所述绝缘基材的表面,所述导电层包括相互之间不导通的绕组区和第一非绕组区,其中:绕组区由图案化的导电层形成绕阻;第一非绕组区位于所述绕组区的外围、且与所述绕组区相互绝缘,所述第一非绕组区通过第一接地连接点接地形成第一屏蔽层。本发明提供的平面绕组,充分利用导电层的非绕组区,将其接地形成屏蔽层,从而可以对绕组进行屏蔽,减少耦合电容,提升了平面绕组的工作效果,并且充分利用导电层,不需要再对非绕组区的导电铜箔或铝箔进行处理,填补了导电层和绝缘基材之间的段差,减少了工艺环节。
搜索关键词: 一种 平面 绕组 单元 制作方法 电子器件
【主权项】:
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