[发明专利]剥离层形成用组合物在审
| 申请号： | 202110782191.1 | 申请日： | 2016-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN113402882A | 公开（公告）日： | 2021-09-17 |
| 发明（设计）人： | 江原和也;进藤和也 | 申请（专利权）人： | 日产化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08G73/10;G09F9/30 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 何杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及剥离层形成用组合物.本发明提供一种层叠体，其为依次层叠基体、剥离层和树脂基板而成的层叠体，所述剥离层与基体的剥离性小于与树脂基板的剥离性，所述剥离层由剥离层形成用组合物形成，所述剥离层形成用组合物包含：使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂，上述芳香族四羧酸二酐包含含有酯键的芳香族四羧酸二酐。其包含：使芳香族二胺与芳香族四羧酸二酐反应得到的聚酰胺酸、和有机溶剂，上述芳香族二胺包含含有醚键的芳香族二胺，和/或上述芳香族四羧酸二酐包含含有醚键的芳香族四羧酸二酐。 | ||
| 搜索关键词： | 剥离 形成 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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