[发明专利]一种化学气相沉积及退火连续制程装置、方法和应用有效
申请号: | 202110783355.2 | 申请日: | 2021-07-12 |
公开(公告)号: | CN113564558B | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 林文富;陈平阳;谈益强;林冠廷;邱琦朝 | 申请(专利权)人: | 浙江陶特容器科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/14 | 分类号: | C23C16/14;C23C16/56;C23C16/52;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/02;H01J37/32 |
代理公司: | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人: | 沈涛 |
地址: | 314400 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明涉及化学气相沉积领域,尤其涉及一种化学气相沉积及退火连续制程装置,其包括:用于进行气相沉积以及退火步骤的反应室、用于向反应室内部输送反应气体的气体阀件模块、用于向外排放反应室内部的制程尾气并调节反应室内部的真空度的压力控制模块以及对压力控制模块输送的制程尾气进行纯化的尾气循环模块。本发明通过在同一设备中同时整合化学气相沉积装置以及退火装置成一体,从而能够大大减少企业购置生产设备的成本,并能够有效缩短钨金属物料的生产时间,增加了生产效率,提升机台利用率,还能够提升生产原物料的利用率,有效节约生产成本,从而能够在回收报废离子源钨制腔体中起到良好的应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 化学 沉积 退火 连续 装置 方法 应用 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的