[发明专利]一种氮化铝兰姆波谐振器的制作方法在审

专利信息
申请号: 202110788440.8 申请日: 2021-07-13
公开(公告)号: CN113595522A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 龙飞;诸政;赵继聪;孙海燕;宋晨光 申请(专利权)人: 重庆胜普电子有限公司;南通大学
主分类号: H03H3/02 分类号: H03H3/02
代理公司: 江苏隆亿德律师事务所 32324 代理人: 倪金磊
地址: 400000 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 本申请提供一种氮化铝兰姆波谐振器的制作方法,包括如下步骤:S1刻蚀产生释放腔再热氧生长钝化层,S2淀积多晶硅牺牲层至充满释放腔,S3刻蚀移除释放腔外周部牺牲层再化学机械抛光工艺使硅片上表面,于所述平坦化后的上表面制作谐振振子的步骤。申请人通过热氧提供最低界面陷阱密度、最高品质因数的氧化层形成良好台阶覆盖的共性台阶覆盖层;还提供用多晶硅反刻法,淀积多晶硅牺牲层,刻蚀去除释放腔外的多晶硅,再化学机械抛光平坦化硅片的上表面;以更好地无损快速平坦化,意料之外得到很好平坦化效果,显著改善生长质量及台阶处覆盖性。及基于此提供高品质因数的氮化铝兰姆波谐振器。
搜索关键词: 一种 氮化 铝兰姆波 谐振器 制作方法
【主权项】:
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