[发明专利]垂直腔面发射激光器及其制备方法有效
申请号: | 202110792341.7 | 申请日: | 2021-07-14 |
公开(公告)号: | CN113258442B | 公开(公告)日: | 2021-11-09 |
发明(设计)人: | 尧舜;刘晨晖;胡斌;张颜儒;杨默;戴伟;董国亮;常露;王青;李军;张杨 | 申请(专利权)人: | 华芯半导体研究院(北京)有限公司 |
主分类号: | H01S5/183 | 分类号: | H01S5/183 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 赵丽婷 |
地址: | 100020 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了垂直腔面发射激光器及其制备方法。该垂直腔面发射激光器包括:衬底、P型过渡层、第一布拉格反射镜、多重量子阱层、第二布拉格反射镜和负电极。该垂直腔面发射激光器的可靠性强、寿命长、发光效率高,且制备成本较低。 | ||
搜索关键词: | 垂直 发射 激光器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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