[发明专利]一种兼具自修复和形状记忆特性的聚己内酯基聚合物电解质及其制备在审

专利信息
申请号: 202110795791.1 申请日: 2021-07-14
公开(公告)号: CN113583208A 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 薛志刚;黄英杰;王计嵘;周兴平;解孝林 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: C08G18/66 分类号: C08G18/66;C08G18/42;C08G18/10;C08G18/32;C08G18/64;H01M10/0525;H01M10/0565
代理公司: 华中科技大学专利中心 42201 代理人: 许恒恒
地址: 430074 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明属于聚合物电解质技术领域,公开了一种兼具自修复和形状记忆特性的聚己内酯基聚合物电解质及其制备,该聚合物电解质是通过将含二硫键的聚氨酯预聚物混入碱金属盐后通过多臂交联剂交联得到的;该聚合物电解质具有聚氨酯交联网络结构,且该交联网络结构中含有二硫键、分子间氢键与聚己内酯嵌段。本发明通过将含二硫键的聚氨酯预聚物混入碱金属盐后通过多臂交联剂交联得到兼具自修复和形状记忆双功能的聚合物,旨在解决现有技术基于二硫键自修复聚合物电解质机械性能较差、不便于满足实际应用需求的技术问题,并且本发明在此基础上还引入了形状记忆作用。
搜索关键词: 一种 兼具 修复 形状 记忆 特性 内酯 聚合物 电解质 及其 制备
【主权项】:
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