[发明专利]质谱分析方法在审
申请号: | 202110804865.3 | 申请日: | 2021-07-16 |
公开(公告)号: | CN114062479A | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
发明(设计)人: | 铃木一己;植松克之;须原浩之 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G01N27/64 | 分类号: | G01N27/64;G01N1/28 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 王永伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及质谱分析方法。本发明的课题在于,提供精度良好地能定量的质谱分析方法。本发明的质谱分析方法向配置在测定试样表面的质谱分析用基质点照射激光束,进行质谱分析,其包括照射所述激光束的激光束照射工序,在向所述质谱分析用基质点照射所述激光束时,在所述测定试样出现的激光点(A)全部收纳在所述质谱分析用基质点,或者(B)将所述质谱分析用基质点全部收纳。 | ||
搜索关键词: | 谱分析 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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