[发明专利]双层式遮蔽构件及具有双层式遮蔽构件的薄膜沉积机台

摘要

本发明提供一种具有双层式遮蔽构件的薄膜沉积机台，主要包括一反应腔体、一承载盘及一双层式遮蔽构件，其中部分的双层式遮蔽构件及承载盘位于反应腔体内。双层式遮蔽构件包括一第一遮蔽板、一第一保护板、一第二遮蔽板、一第二保护板及一驱动装置，其中驱动装置连接第一及第二遮蔽板，并驱动第一及第二遮蔽板朝相反方向摆动。在进行清洁制程时，驱动装置会带动第一及第二遮蔽板相互靠近。第一及第二保护板分别设置在第一及第二遮蔽板的表面，其中第一及第二保护板与第一及第二遮蔽板之间存在一间隔，可防止第一及第二遮蔽板发生高温变形，以提高遮蔽的效果。