[发明专利]一种用于制备单晶包层的方法及装置有效
| 申请号： | 202110814718.4 | 申请日： | 2021-07-19 |
| 公开（公告）号： | CN113480198B | 公开（公告）日： | 2022-06-03 |
| 发明（设计）人： | 王宇;顾鹏;梁振兴 | 申请（专利权）人： | 眉山博雅新材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C25/106 | 分类号： | C03C25/106;C03C25/16;C30B1/02;C30B29/28 |
| 代理公司： | 成都七星天知识产权代理有限公司 51253 | 代理人： | 严芳芳 |
| 地址： | 620010 四川省眉*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本说明书实施例提供一种用于制备单晶包层的方法及装置，该方法包括：制备非晶相物料；熔化非晶相物料以形成非晶相熔体；将光纤浸没于非晶相熔体中；基于非晶相熔体和光纤，在光纤外周形成非晶相包层；以及对非晶相包层进行晶化处理，得到单晶包层。该装置包括：非晶相物料制备组件、非晶相包层制备组件和单晶包层制备组件。非晶相物料制备组件用于制备非晶相物料。非晶相包层制备组件用于熔化非晶相物料以形成非晶相熔体；将光纤浸没于非晶相熔体中；以及基于非晶相熔体和光纤，在光纤外周形成非晶相包层。单晶包层制备组件用于对非晶相包层进行晶化处理，得到单晶包层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 制备 包层 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于眉山博雅新材料股份有限公司，未经眉山博雅新材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110814718.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
