[发明专利]蒸发装置及真空镀膜设备

摘要

本发明涉及一种蒸发装置，包括进气管、第一蒸发盘、第二蒸发盘、第一加热件、第二加热件及出气管。第一蒸发盘具有用于放置反应物源的第一蒸发腔、第一进气孔和第一出气孔，进气管一端与第一进气孔连通；第二蒸发盘与第一蒸发盘固定连接，且第二蒸发盘具有用于放置反应物源的第二蒸发腔、第二进气孔和第二出气孔，第二进气孔与第一出气孔连通；出气管一端与第二出气孔连通。第一蒸发盘和第二蒸发盘可单独通过第一加热件和第二加热件进行加热，从而可对第一蒸发腔和第二蒸发腔内的反应效率单独控制，单独控制每一蒸发腔内的反应物源的蒸发量，进而确保带有反应物源的蒸汽稳定地输出。本发明还涉及一种真空镀膜设备。