[发明专利]获得测量的方法、用于执行过程步骤的设备和计量设备在审
| 申请号： | 202110819582.6 | 申请日： | 2017-04-21 |
| 公开（公告）号： | CN113467195A | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | H·E·切克利;M·伊什巴士;W·J·M·范德文;W·S·C·罗洛夫斯;E·G·麦克纳马拉;R·拉赫曼;M·库珀斯;E·P·施密特-韦弗;E·H·A·戴尔维戈奈 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00;H01L21/66;G01N21/956 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张昊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在执行光刻过程步骤之前或之后，从衬底(W')上的位置获得测量。这种测量的示例包括在将图案应用到衬底之前进行的对准测量，以及在已经应用图案之后诸如套刻之类的性能参数的测量。从所有可能的测量位置(302)之中选择测量位置集合(606、606'或606”)。响应于使用初步选择的测量位置(610)所获得的测量，动态地选择(202c)所选测量位置的至少一个子集。高度的初步测量可以被用来选择用于对准的测量位置。在本公开的另一方面中，基于诸如高度测量或历史数据之类的补充数据来检测异常值测量。 | ||
| 搜索关键词： | 获得 测量 方法 用于 执行 过程 步骤 设备 计量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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